在COB显示追求极致视觉的路上，表面处理技术始终是影响画面质感、可靠性与能效表现的关键环节。
回顾LED表面处理技术的演变，是一个不断解决痛点的过程：
第一代 | 环氧压膜
环氧压膜(molding)曾是早期常见的 COB 表面处理方案，但在实际应用中逐渐暴露出多重局限：
应力集中，易导致芯片失常或死灯，影响成品率；
黄变问题，墨色与光色一致性难以长期保持；
工艺可控性不足，液体压膜厚度不均，影响屏体平整度和整体观感，墨色一致性更难以保证。
在高端与专业显示场景中，这些问题逐渐成为制约 COB 应用扩展的关键瓶颈。
第二代 | 底填+贴膜
第二代表面处理方案通过“底填 + 贴膜”的方式，对第一代材料与可靠性问题进行了系统性改善：
消除应力集中的问题，芯片稳定性显著提升；
贴膜工艺大幅改善墨色一致性与表面平整度；
光色稳定性增强，不易黄变、变色。
当前，多数主流 COB 厂商为追求更深的黑度，普遍采用黑色贴膜方案，但其技术瓶颈也很明显：黑色膜片透过率偏低，直接导致芯片出光效率大幅下降——原始亮度损失约 60%，经校正后仍存在约 25% 的亮度衰减。
实际应用中，部分 COB 产品在贴膜前可达 2000nit 的亮度水平，贴膜后仅剩约 600nit，亮度、对比度与功耗难以同时兼顾，高亮应用空间因此受到明显限制。
第三代 | “纳米黑”表面处理技术
中麒光电围绕表面处理技术持续创新迭代，推出第三代”纳米黑”表面处理技术。
其核心在于专利级“纳米黑”光学层结构设计，并通过对不同功能层透过率的精确控制，实现光学性能的分层优化：
黑区控制：“纳米黑”专利光学层透过率控制在10%以下，确保了屏幕在环境光下的深邃黑度与视觉统一性。
出光效率：AG功能层透过率提升至70%以上，有效减少了表面涂层对LED芯片发光效率的影响，突破第二代贴膜亮度衰减严重的瓶颈。
通过这一结构优化，第三代”纳米黑”真正打破了亮度、墨色与功耗之间的传统制约，实现深黑墨色、高一致性、高亮度与低功耗的兼得。
核心性能指标
Core Performance
通过光学结构的优化，“纳米黑”技术在多个关键维度实现了性能提升：
更高亮度：最高可达 1200nit（P1.25实像素产品）
更低功耗：相比普通COB产品，整体功耗降低30%以上
更高对比度：在10lux 环境光照度下，可实现10000:1的高对比表现
实测功耗数据（P1.25实像素H2产品）
Measured Data
根据实际测试，该技术在不同亮度需求下表现出良好的功耗控制：
1200nit 超高亮度白屏功耗仅 345W/㎡
1000nit 高亮度白屏功耗仅 280W/㎡
600nit 标准亮度白屏功耗仅 208W/㎡
这意味着，在真实使用场景中，纳米黑不仅更“黑”、更“亮”，也更节能稳定，真正适合高亮、高频、长时间运行的高端显示需求。
为什么选择“纳米黑”？
第三代“纳米黑”技术通过专利级光学材料的应用，真正打破了亮度、墨色与功耗之间的传统制约。
在延续第二代方案墨色一致性与平整度优势的基础上，解决了高端LED显示的核心痛点，在提升可靠性、画质与能效的同时，COB显示屏的综合性能与长期运行的稳定性，使其能够更完美地适配对显示品质有严苛要求的高端及专业场景。
以制造力，定义显示力
从材料创新到工艺迭代，第三代”纳米黑”的背后，是中麒光电对高端LED直显制造能力的长期投入与持续进化。
依托扎实的研发体系、成熟的量产能力与严苛的品质标准，中麒正以高端制造力驱动技术落地，用创新不断拓展COB显示的性能边界，持续为高端与专业显示场景提供可靠、领先的直显解决方案。
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